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簡要描述:納米二氧化硅分散機,納米二氧化硅超細分散機,納米二氧化硅高速分散機,納米二氧化硅研磨分散機。是由高科技產(chǎn)品而組成的產(chǎn)品。有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐磨轉(zhuǎn)子,另有醫(yī)藥及食品級材質(zhì),可滿足客戶不同需求。
產(chǎn)品型號: NKD2000
所屬分類:超高速分散機
更新時間:2024-08-26
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【產(chǎn)品介紹】
一、產(chǎn)品名稱:
納米二氧化硅分散機,納米二氧化硅超細分散機,納米二氧化硅高速分散機,納米二氧化硅研磨分散機。
二、納米二氧化硅性質(zhì)及應用
納米二氧化硅是極其重要的高科技超微細無機材料之一,因其粒徑很小,比表面積大,表面吸附力強,表面能大,化學純度高、分散性能好,熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其*的穩(wěn)定性、補強性、增稠性和觸變性,在眾多學科及領域內(nèi)*特性,有著不可取代的作用。
納米二氧化硅俗稱“超微細白炭黑”,廣泛用于各行業(yè)作為添加劑、催化劑載體,石油化工,脫色劑,消光劑,橡膠補強劑,塑料充填劑,油墨增稠劑,高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各領域。
三、納米二氧化硅分散應用及難點
納米二氧化硅分散在多個領域都有著重要的應用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。CIK研磨分散機*的結(jié)構(gòu),全新的技術,專業(yè)應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。
對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,CIK研發(fā)出新型設備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用CIK研磨分散機進行分散處理,*。
四、CIK納米二氧化硅分散機結(jié)構(gòu)
納米分散設備是CIK(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
五、CIK特點
①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
六、CIK選型表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
NKD2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
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